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trifluoruro de nitrógeno

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    Introducción del producto:

    El trifluoruro de nitrógeno (NF3) es un gas incoloro, inodoro, estable y un oxidante fuerte.El trifluoruro de nitrógeno tiene un punto de fusión de -206,8 ℃ y un punto de ebullición de -129,0 ℃, y es insoluble en agua.Como excelente gas de grabado con plasma en la industria de la microelectrónica, el trifluoruro de nitrógeno se descompone en iones de flúor activos durante el grabado con plasma.Al grabar silicio y nitruro de silicio, el trifluoruro de nitrógeno tiene una mayor tasa de grabado y selectividad que el tetrafluoruro de carbono y la mezcla de tetrafluoruro de carbono y oxígeno, especialmente cuando el espesor es inferior a 1,5 μ. En el grabado de materiales de circuitos integrados de m, el trifluoruro de nitrógeno tiene una excelente Tasa de grabado y selectividad, sin dejar residuos en la superficie del objeto grabado, y también es un muy buen agente de limpieza.

    Índice de productos:

     

     

    项目 Artículos Unidad 单位 指标 Índices
    三氟化氮(NF3)≥ % vol. 99.5 99.9 99.98 99.99 99.996
    四氟化碳(CF4)≤ Vol.ppm 1500 500 100 50 20
    氮气(N2)≤ Vol.ppm 700 50 10 10 5
    氧加氩(O2+Ar))≤ Vol.ppm 700 50 10 5 3
    一氧化碳(CO)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
    二氧化碳(CO2)≤ Vol.ppm 25 10 10 5 0.5
    氧化亚氮(N2O)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
    六氟化硫(SF6)≤ Vol.ppm 50 50 10 5 2
    可水解氟化物Fluoruro hidrolizable(Medido por HF)≤ Vol.ppm 1 1 1 1 1
    水(H2O)≤ Vol.ppm 1 1 1 1 1

     

     

    Uso del producto:

    El trifluoruro de nitrógeno se puede utilizar como fuente de flúor para gas láser químico de alta energía y también como grabador de materiales semiconductores como polisilicio, nitruro de silicio, siliciuro de tungsteno, etc. También se puede utilizar como agente de limpieza para cámaras de deposición de vapor químico. y panel LCD de producción de chips semiconductores.El uso de trifluoruro de nitrógeno como agente de limpieza para la caja CVD puede reducir las emisiones contaminantes en aproximadamente un 90 % en comparación con los perfluorocarbonos y mejorar significativamente la velocidad y la capacidad de limpieza.

    Embalaje y almacenamiento:

    El trifluoruro de nitrógeno se llena en cilindros de acero sin costura con un volumen de 8L, 40L, 43.3L y 47L respectivamente;La presión del cilindro es 9.0-13.0MPa.Las especificaciones de embalaje específicas se pueden personalizar y cambiar según las necesidades del usuario.


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